کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10669923 | 1008845 | 2012 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Charging response of back-end-of-the-line barrier dielectrics to VUV radiation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠SiN, N-SiC O-SiC and SiC dielectric films were irradiated with synchrotron radiation. ⺠The charge was determined from the surface potential after 9.5 eV irradiation. ⺠Location of trapped charges found from surface potential as a function of thickness.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5300-5303
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5300-5303
نویسندگان
H. Sinha, J.L. Lauer, G.A. Antonelli, Y. Nishi, J.L. Shohet,