کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10669977 | 1008845 | 2012 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fluid-kinetics enhanced selective etching process of NiPt film by piranha chemistry in silicide formation for complementary metal oxide semiconductor fabrication
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Fluid-kinetics enhanced selective etching process of NiPt film by piranha chemistry in silicide formation for complementary metal oxide semiconductor fabrication Fluid-kinetics enhanced selective etching process of NiPt film by piranha chemistry in silicide formation for complementary metal oxide semiconductor fabrication](/preview/png/10669977.png)
چکیده انگلیسی
⺠Effective nickel platinum (NiPt) selective etching process by piranha chemistry ⺠Higher electrochemical potential promotes β-Pt oxide formation. ⺠Stronger fluid kinetic and rapid voltammetric cycle enhance Pt etching rate. ⺠5% Pt, 120-200 Ã
NiPt and 10% Pt, 100-180Â Ã
NiPt silicide conditions verified ⺠Wafer surface damage is reduced through shorter NiPt selective etch process cycle.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5482-5488
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 16, 1 June 2012, Pages 5482-5488
نویسندگان
Ming Mao Chu, Jung-Hua Chou,