کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10670247 1008859 2012 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Comparison of stress migration and electromigration in the fabrication of thin Al wires
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Comparison of stress migration and electromigration in the fabrication of thin Al wires
چکیده انگلیسی
► Thin Al wires fabricated by stress migration or electromigration. ► Similar Al2O3/Al/SiO2/Si structures were used for the preparation of thin Al wires. ► Comparison between stress migration and electromigration wire growth mechanism. ► Al thin wires also formed with a thin SiO2 layer replacing the native Al oxide layer. ► Potential for fabricating Al wires with controlled diameter using atomic migration.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 9, 29 February 2012, Pages 3448-3452
نویسندگان
, , ,