کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10670288 1008859 2012 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Advantages of highly ionized pulse plasma magnetron sputtering (HIPIMS) of silver for improved E. coli inactivation
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Advantages of highly ionized pulse plasma magnetron sputtering (HIPIMS) of silver for improved E. coli inactivation
چکیده انگلیسی
► Ag-layers sputtered by HIPIMS to inactivate E. coli are thinner compared to DC magnetron sputtering. ► HIPIMS leads to Ag-metal saving a non-renewable resource of industrial importance. ► Microscopy images of DCMS and HIPiMS Ag-clusters on a fiber are presented
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 9, 29 February 2012, Pages 3567-3573
نویسندگان
, , , , , , , ,