کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10670288 | 1008859 | 2012 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Advantages of highly ionized pulse plasma magnetron sputtering (HIPIMS) of silver for improved E. coli inactivation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Ag-layers sputtered by HIPIMS to inactivate E. coli are thinner compared to DC magnetron sputtering. ⺠HIPIMS leads to Ag-metal saving a non-renewable resource of industrial importance. ⺠Microscopy images of DCMS and HIPiMS Ag-clusters on a fiber are presented
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 9, 29 February 2012, Pages 3567-3573
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 9, 29 February 2012, Pages 3567-3573
نویسندگان
Oualid Baghriche, Abed Zertal, Arutiun P. Ehiasarian, R. Sanjines, Cesar Pulgarin, Ewelina Kusiak-Nejman, Antoni W. Morawski, John Kiwi,