کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10670309 | 1008859 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Deposition of nickel oxide by direct current reactive sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
⺠Nickel oxide thin films deposited by reactive direct current magnetron sputtering. ⺠Nickel oxide thin films deposited without intentional heating. ⺠Two electrical transitions observed with increasing oxygen content. ⺠Deposition of polycrystalline NiO thin films with controlled growth of the structure. ⺠NiO p-type semiconductor and transparent thin films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 9, 29 February 2012, Pages 3609-3613
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 9, 29 February 2012, Pages 3609-3613
نویسندگان
A. Karpinski, A. Ferrec, M. Richard-Plouet, L. Cattin, M.A. Djouadi, L. Brohan, P.-Y. Jouan,