کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
10670309 1008859 2012 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Deposition of nickel oxide by direct current reactive sputtering
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Deposition of nickel oxide by direct current reactive sputtering
چکیده انگلیسی
► Nickel oxide thin films deposited by reactive direct current magnetron sputtering. ► Nickel oxide thin films deposited without intentional heating. ► Two electrical transitions observed with increasing oxygen content. ► Deposition of polycrystalline NiO thin films with controlled growth of the structure. ► NiO p-type semiconductor and transparent thin films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 9, 29 February 2012, Pages 3609-3613
نویسندگان
, , , , , , ,