کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10670341 | 1008859 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Characterizations and thermal stability improvement of phase-change memory device containing Ce-doped GeSbTe films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Characterizations and thermal stability improvement of phase-change memory device containing Ce-doped GeSbTe films Characterizations and thermal stability improvement of phase-change memory device containing Ce-doped GeSbTe films](/preview/png/10670341.png)
چکیده انگلیسی
⺠Ce doping increased phase-change temperature of GST from 159 to 236 °C. ⺠No suppression of resistivity level in amorphous Ce-doped GST. ⺠Resistance ratio of amorphous and crystalline Ce-doped GST was preserved at 105. ⺠p-type semiconducting behavior of GST was enhanced by Ce-doping. ⺠Ce-doping improved the thermal stability of threshold voltage of GST PCM device.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 9, 29 February 2012, Pages 3692-3696
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 9, 29 February 2012, Pages 3692-3696
نویسندگان
Yu-Jen Huang, Min-Chuan Tsai, Chiung-Hsin Wang, Tsung-Eong Hsieh,