کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10670649 | 1008976 | 2005 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A chemical kinetics model to explain the abrasive size effect on chemical mechanical polishing
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A chemical kinetics model was proposed to describe the abrasive size effect on chemical mechanical polishing (CMP). The model is based on the consideration of a pad as a sort of catalyst and the re-adhering of abrasives due to the large size. Therefore, a general equation was deduced according the chemical kinetics methodology to give the meanings of the size effect. Finally, according a set of data related to the abrasive size effect on CMP, a possible form can be PR=αCCCTXACWAn/[β+γXACWAn] where α, β, γ and n are the parameters in a CMP system.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 476, Issue 1, 1 April 2005, Pages 130-136
Journal: Thin Solid Films - Volume 476, Issue 1, 1 April 2005, Pages 130-136
نویسندگان
Ping Hsun Chen, Bing Wei Huang, Han-C Shih,