کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
10671028 | 1009031 | 2005 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Co3O4 protective coatings prepared by Pulsed Injection Metal Organic Chemical Vapour Deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Cobalt oxide films were grown by Pulsed Injection Metal Organic Chemical Vapour Deposition (PI-MOCVD) using Co(acac)3 (acac=acetylacetonate) precursor dissolved in toluene. The structure, morphology and growth rate of the layers deposited on silicon substrates were studied as a function of deposition temperature. Pure Co3O4 spinel structure was found for deposition temperatures ranging from 360 to 540 °C. The optimum experimental parameters to prepare dense layers with a high growth rate were determined and used to prepare corrosion protective coatings for Fe-22Cr metallic interconnects, to be used in Intermediate Temperature Solid Oxide Fuel Cells.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 473, Issue 1, 1 February 2005, Pages 98-103
Journal: Thin Solid Films - Volume 473, Issue 1, 1 February 2005, Pages 98-103
نویسندگان
M. Burriel, G. Garcia, J. Santiso, A.N. Hansson, S. Linderoth, A. Figueras,