کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1546981 | 997627 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fabrication of InGaN/GaN stripe structure on (1 1 1)Si and stimulated emission under photo-excitation
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
مواد الکترونیکی، نوری و مغناطیسی
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
InGaN/GaN QW laser structure was investigated on a GaN trapezoid grown on (1 1 1)Si substrate by selective MOVPE. The dislocation density in the active layer was reduced by a two-step growth method adopting facet controlled epitaxial lateral overgrowth (FACELO). A sample with 350 μm long cavity length showed narrowing of the spectral peak under optical excitation. The compositional non-uniformity originating from the ridge growth on the trapezoid is removed by adopting re-evaporation phenomenon under heat treatment during the growth process.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 42, Issue 10, September 2010, Pages 2575–2578
Journal: Physica E: Low-dimensional Systems and Nanostructures - Volume 42, Issue 10, September 2010, Pages 2575–2578
نویسندگان
B.-J. Kim, T. Tanikawa, Y. Honda, M. Yamaguchi, N. Sawaki,