کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1664086 | 1518008 | 2016 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Local homoepitaxy of zinc oxide thin films by magnetron sputtering
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
High quality zinc oxide (ZnO) thin films have been deposited on c-axis oriented (Zn-face) hydrothermally grown single crystal ZnO substrates by employing Radio Frequency magnetron sputtering at variable sputtering power densities. Structural and optical properties of the thin films show that at low sputtering power densities, the thin films grow homoepitaxially with a low defect density, while the higher impact energy of depositing atoms and ions at higher sputtering power densities induces damage to the growing film, and a strained, off-axis growth results. The surface morphology of the films reveals a 3D growth mode, and the observed homoepitaxy hence occurs locally inside the grains, i.e. local homoepitaxy.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 601, 29 February 2016, Pages 18-21
Journal: Thin Solid Films - Volume 601, 29 February 2016, Pages 18-21
نویسندگان
H.N. Riise, V.S. Olsen, A. Azarov, A. Galeckas, T.N. Sky, B.G. Svensson, E. Monakhov,