کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1664236 | 1518012 | 2015 | 8 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanocrystalline titanium films deposited via thermal-emission-enhanced magnetron sputtering
ترجمه فارسی عنوان
فیلم های تیتانیوم نانوکریستالی که از طریق اسپکترومغناطیسی مگنترون افزایش یافته است
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
پر کردن یونهای مگنترون، تراکم جریان هدف، انتشار گرما، نرخ یونیزاسیون،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
Nanocrystalline titanium films were deposited at ultra-high current density by a direct-current closed-field unbalanced magnetron sputtering technique. The structures and properties of the films were characterized using X-ray diffraction (XRD), scanning electron microscopy (SEM), transmission electron microscopy (TEM), atomic force microscopy (AFM) and nanoindentation microscratch. The Ti film deposited at target current density of 0.267Â A/cm2 exhibited a polycrystalline microstructure with average grain size of 16Â nm, fine columnar structure with no obvious voids and smooth surface, better film thickness uniformity in different parts, and excellent film-substrate adhesion. These results showed that the excellent film structure and performances were primarily achieved by using high ionization rate and energy of target atoms. As current density exceeded 0.175Â A/cm2, ionization rate and energy of target atoms were greatly improved owing to the thermally-enhanced spontaneous emission of atoms and electrons from the target by Ar+ bombardment and Joule heating.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 597, 31 December 2015, Pages 117-124
Journal: Thin Solid Films - Volume 597, 31 December 2015, Pages 117-124
نویسندگان
Chao Yang, Bailing Jiang, Zheng Liu, Lin Feng, Juan Hao,