کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1664294 | 1518010 | 2016 | 14 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Synthesis of amorphous hydrogenated carbon thin films by magnetized radio-frequency discharge in argon-acetylene mixture at very low gas pressure
ترجمه فارسی عنوان
سنتز فیلم های نازک کربن هیدروژنه آمورف با تخلخل فرکانس رادیویی مغناطیسی در مخلوط آرگون-استیلن با فشار گاز بسیار کم
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
پلیمریزاسیون ناشی از پلاسما، تخلیه رادیویی، گرد و غبار، استیلن، کربن آمورف، میدان مغناطیسی،
ترجمه چکیده
در این مقاله، توصیف خصوصیات فیلم های نازک کربنی روی بستر سیلیکون بلورین با استفاده از یک تخلخل فرکانس بالا مغناطیسی در مخلوط آرگون و استیلن با فشار بسیار پایین ارائه شده است. فیلم های نازک با ساختار مورفولوژیکی متفاوت به دست می آیند. بسته به فشار گاز، درصد استیلن و زمان فرایند، می توان مورفولوژی فیلم سطح را به سه دسته طبقه بندی کرد: صاف، ترک خورده یا میکروساختار. علاوه بر این، هنگام استفاده از میدان مغناطیسی خارجی، دیده شده است که بسته به جهت سوبسترا (عمود یا موازی) به محور راکتور، ممکن است مورفولوژی های مختلف فیلم را بدست آورید. برای شرایط خاص، یون های آرگون پر انرژی تشکیل می شوند که منجر به آسیب رساندن به سطح فیلم می شود و هنگامی که آنها را تحت تاثیر قرار می دهد، سطح فیلم را تحت تاثیر قرار می دهد. مسیرهای شیمیایی و احتمالا ایزومرهایی که به رشد کمک می کنند نیز شناسایی و مورد بحث قرار می گیرند. مواد سنتز کننده در چنین شرایط کم فشار برای درک بهتر پدیده های پیچیده ای که در پلاسما اتفاق می افتد مانند ناپایداری های ناشی از ذرات و طیف های مادون قرمز از گرد و غبار بین ستاره ای کربن است.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
This paper presents a characterization study of carbon thin films grown on crystalline silicon substrates using a magnetized high-frequency discharge in argon-acetylene mixture at very low pressure. Thin films with different morphological structure are obtained. Depending on the gas pressure, acetylene percentage and process time, it is possible to categorize the surface film morphology into three categories: smooth, cracked or microstructured. Moreover, when applying external magnetic field, it has been observed that depending on the substrate direction (perpendicular or parallel) to the reactor axis, it is possible to obtain different film morphologies. For specific conditions, energetic argon ions are formed which lead to film surface damaging and to their inclusion when they impinge the film surface. Chemical pathways and most likely isomers that contribute to the growth are also identified and discussed. Synthesizing materials in such low pressure conditions is of particular interest for better understanding the complex phenomena taking place in the plasma such as instabilities induced by particles and infra-red spectra of carbonaceous interstellar dust.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 599, 29 January 2016, Pages 84-97
Journal: Thin Solid Films - Volume 599, 29 January 2016, Pages 84-97
نویسندگان
Ahmad Hamdan, Georges Al Makdessi, Joëlle Margot,