کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1664427 | 1518011 | 2016 | 13 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
An in situ X-ray diffraction study of phase separation in Cu-Ta alloy thin films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
In this work a systematic in situ annealing study of sputtered Cu-Ta alloys is reported. Under equilibrium conditions Cu and Ta are completely immiscible, the metastable Cu-Ta alloys hence undergo phase separation upon annealing. Using in situ X-ray diffraction the phase evolution at temperatures < 650 °C is studied over the entire composition range and the data is assembled in a phase map. It is shown that the presence of a surface oxide layer influences the β to α phase transformation temperature of Ta and thus determines the crystal structure of the Ta-rich phase formed upon phase separation. Surface segregation of Cu necessitates the use of an alumina capping layer on the Cu-Ta/SiNx/SiO2/Si samples.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 598, 1 January 2016, Pages 276-288
Journal: Thin Solid Films - Volume 598, 1 January 2016, Pages 276-288
نویسندگان
Claudia M. Müller, Ralph Spolenak,