کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1667453 | 1008851 | 2012 | 18 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atmospheric plasmas for thin film deposition: A critical review
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
An overview of the possibilities of atmospheric plasma for the deposition of inorganic and organic coatings is presented. Some particularities of the atmospheric discharges and their consequences on the synthesis of films are presented and discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 13, 30 April 2012, Pages 4219-4236
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 13, 30 April 2012, Pages 4219-4236
نویسندگان
Delphine Merche, Nicolas Vandencasteele, François Reniers,