کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
1667453 1008851 2012 18 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atmospheric plasmas for thin film deposition: A critical review
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Atmospheric plasmas for thin film deposition: A critical review
چکیده انگلیسی
An overview of the possibilities of atmospheric plasma for the deposition of inorganic and organic coatings is presented. Some particularities of the atmospheric discharges and their consequences on the synthesis of films are presented and discussed.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 13, 30 April 2012, Pages 4219-4236
نویسندگان
, , ,