کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1667552 | 1008852 | 2012 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Fluctuation of average position of electrons in Coulomb island in Si single-electron transistor
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Average position of electrons along thickness direction in a Coulomb island in an n-channel Si single-electron transistor is estimated by analyzing the back-gate voltage dependence of peak voltage (defined as the gate voltage giving a drain current peak) as a function of peak number. It is found that the accuracy of estimated average position is better than 0.5Â nm and that the average position fluctuates as the peak number increases.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 8, 1 February 2012, Pages 3349-3353
Journal: Thin Solid Films - Volume 520, Issue 8, 1 February 2012, Pages 3349-3353
نویسندگان
Seiji Horiguchi, Akira Fujiwara,