کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1667787 | 1008857 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A study of nanoscale TiB2 precipitation during titanium silicidation using atom probe tomography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Atom Probe Tomography (APT) was applied to analyze the silicidation reaction between a titanium metal film, capped by a TiN layer, and a boron-implanted silicon substrate. The concentration depth profile observed by APT, depicts low concentrations of B in titanium silicide itself and the B accumulation at the interface between the TiSi2 and the TiN capping layer. Moreover the three dimensional atomic reconstruction from APT revealed a laterally inhomogeneous B distribution along the interface as well as B precipitation. APT enables the stoichiometric identification of TiB2 precipitates smaller than 7 nm in diameter.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 519, Issue 22, 1 September 2011, Pages 7826–7829
Journal: Thin Solid Films - Volume 519, Issue 22, 1 September 2011, Pages 7826–7829
نویسندگان
K. Wedderhoff, C.A. Kleint, A. Shariq, S. Teichert,