کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1669353 | 1008882 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
A study of atomic layer deposited LiAlxOy films on Mg–Li alloys
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: A study of atomic layer deposited LiAlxOy films on Mg–Li alloys A study of atomic layer deposited LiAlxOy films on Mg–Li alloys](/preview/png/1669353.png)
چکیده انگلیسی
LiAlxOy films with thicknesses of 65–200 nm were deposited by the atomic layer deposition (ALD) technique on the LZ101 Mg–Li alloy. The ALD-deposited LiAlxOy films exhibit an amorphous structure and have an atomic ratios of Li:Al:O = 1:1:2. The potentio-dynamic polarization tests show that the corrosion resistance of Mg–Li alloys can be significantly improved due to the dense and pinhole-free structure as well as the excellent coverage and conformity of the ALD-deposited LiAlxOy films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 518, Issue 24, 1 October 2010, Pages 7501–7504
Journal: Thin Solid Films - Volume 518, Issue 24, 1 October 2010, Pages 7501–7504
نویسندگان
P.C. Wang, Y.T. Shih, M.C. Lin, H.C. Lin, M.J. Chen, K.M. Lin,