کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1669670 | 1008887 | 2010 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atomic layer deposited aluminum oxide barrier coatings for packaging materials
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Atomic layer deposited aluminum oxide barrier coatings for packaging materials Atomic layer deposited aluminum oxide barrier coatings for packaging materials](/preview/png/1669670.png)
چکیده انگلیسی
Thin aluminum oxide coatings have been deposited at a low temperature of 80 °C on various uncoated papers, polymer-coated papers and boards and plain polymer films using the atomic layer deposition (ALD) technique. The work demonstrates that such ALD-grown Al2O3 coatings efficiently enhance the gas-diffusion barrier performance of the studied porous and non-porous materials towards oxygen, water vapor and aromas.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 518, Issue 10, 1 March 2010, Pages 2654–2658
Journal: Thin Solid Films - Volume 518, Issue 10, 1 March 2010, Pages 2654–2658
نویسندگان
Terhi Hirvikorpi, Mika Vähä-Nissi, Tuomas Mustonen, Eero Iiskola, Maarit Karppinen,