کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1671313 | 1008914 | 2009 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Superposed forward current-voltage characteristics in TbMnO3/n-Si and TbMnO3/p-Si heterostructures
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
TbMnO3/n-Si (n-N) and TbMnO3/p-Si (p-n) heterojunctions were fabricated under identical conditions. Good rectifying characteristics were found with almost the same forward current-voltage behavior in a temperature range from 150 to 300Â K. Such intriguing superposed rectifying behaviours at the interfaces between TbMnO3 and Si of two different doped types can be explained by a similar Schottky barrier diode behavior with its current-voltage dependence generally dominated by only one type of carrier. This work will favor both electronic transport analysis and future device applications.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 517, Issue 20, 31 August 2009, Pages 5872-5875
Journal: Thin Solid Films - Volume 517, Issue 20, 31 August 2009, Pages 5872-5875
نویسندگان
Yimin Cui, Rongming Wang,