کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1671401 | 1008915 | 2010 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Structural study of Si1 − xGex nanocrystals embedded in SiO2 films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We have investigated the structural properties of Si1 − xGex nanocrystals formed in an amorphous SiO2 matrix by magnetron sputtering deposition. The influence of deposition parameters on nanocrystal size, shape, arrangement and internal structure was examined by X-ray diffraction, Raman spectroscopy, grazing incidence small angle X-ray scattering, and high resolution transmission electron microscopy. We found conditions for the formation of spherical Si1 − xGex nanocrystals with average sizes between 3 and 13 nm, uniformly distributed in the matrix. In addition we have shown the influence of deposition parameters on average nanocrystal size and Ge content x.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 518, Issue 9, 26 February 2010, Pages 2569–2572
Journal: Thin Solid Films - Volume 518, Issue 9, 26 February 2010, Pages 2569–2572
نویسندگان
S.R.C. Pinto, R.J. Kashtiban, A.G. Rolo, M. Buljan, A. Chahboun, U. Bangert, N.P. Barradas, E. Alves, M.J.M. Gomes,