کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1673655 | 1518098 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Large area VHF plasma sources
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Large area VHF plasma sources Large area VHF plasma sources](/preview/png/1673655.png)
چکیده انگلیسی
Array antenna, a novel plasma source, was developed to realize uniform deposition of silicon thin films such as amorphous silicon and microcrystalline silicon on large area substrates with power frequency in the VHF band. It consists of plural U-shaped loop antenna type electrodes, and silicon thin films are uniformly deposited on over > 1 m2 substrates by introducing VHF power at 85 MHz with anti-phase. The VHF PCVD system with array antenna is suitable for the mass-production of silicon thin film solar cells due to its high throughput achieved by double-sided, multi-zone deposition.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 502, Issues 1–2, 28 April 2006, Pages 50–54
Journal: Thin Solid Films - Volume 502, Issues 1–2, 28 April 2006, Pages 50–54
نویسندگان
T. Takagi, M. Ueda, N. Ito, Y. Watabe, H. Sato, K. Sawaya,