کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1673701 | 1518098 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Highly stabilized hydrogenated amorphous silicon solar cells fabricated by triode-plasma CVD
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We have developed a highly stabilized hydrogenated amorphous silicon solar cell with extremely low Si–H2 bond density in the i layer using a triode-plasma CVD method. Si–H2 bond density decreased from 1.7 to 0.6 at.%, and correspondingly the degradation ratio of the cell efficiency decreased from 13% to 10% in comparison to the conventional diode system. It was also found that the hydrogen dilution mainly affects Si–H bond density rather than Si–H2 bond density in the films. Further optimization for the TCO/p interface results in the stabilized cell efficiency of 9.22%.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 502, Issues 1–2, 28 April 2006, Pages 306–310
Journal: Thin Solid Films - Volume 502, Issues 1–2, 28 April 2006, Pages 306–310
نویسندگان
H. Sonobe, A. Sato, S. Shimizu, T. Matsui, M. Kondo, A. Matsuda,