کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1673809 | 1008953 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
SiCOI structure fabricated by catalytic chemical vapor deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: SiCOI structure fabricated by catalytic chemical vapor deposition SiCOI structure fabricated by catalytic chemical vapor deposition](/preview/png/1673809.png)
چکیده انگلیسی
Epitaxial growth of SiC on SOI substrates using a hot-mesh chemical vapor deposition (CVD) technique was investigated. This technique utilizes a catalytic reaction involving hot tungsten wires arranged in a mesh structure. Using this hot-mesh CVD method, SiC epitaxial growth on SOI substrates with a thin top Si layer was realized without formation of voids, which form readily in the thin Si top layer at temperatures above 800 °C. The SiC film grown on an SOI structure exhibited a large gage factor (GF) of â 27, which is approximately the same as that (GF = â 31.8) of a SiC epitaxial film on Si(100) grown at 1360 °C using atmospheric pressure CVD.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 5, 15 January 2008, Pages 644-647
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 5, 15 January 2008, Pages 644-647
نویسندگان
Kanji Yasui, Hitoshi Miura, Masasuke Takata, Tadashi Akahane,