کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1674204 | 1008960 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nondestructive investigation of β-FeSi2/Si interface by photoluminescence measurements
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
Ion-beam-synthesized β-FeSi2/Si interfaces were investigated by carrier-injection photoluminescence (CPL) measurements. The CPL intensity of Al-doped β-FeSi2/Si sample was larger than that of non-doped one. We obtained a carrier injection efficiency (γ) of γ = 0.41 in the Al-doped sample and γ = 0.19 in the non-doped one. These results revealed that Al-doping into β-FeSi2 is an effective technique for the improvement of β-FeSi2/Si interface which is defective due to ion implantation damages.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 515, Issue 22, 15 August 2007, Pages 8129-8132
Journal: Thin Solid Films - Volume 515, Issue 22, 15 August 2007, Pages 8129-8132
نویسندگان
Yoshikazu Terai, Yoshihito Maeda, Yasufumi Fujiwara,