کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1674946 | 1008972 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Effects of ion implantation on the microstructure and residual stress of filter arc CrN films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Chromium nitride coatings were deposited using a hybrid physical vapor deposition (PVD) system containing a filter arc deposition (FAD) and a metal plasma ion implantation source (MPII). Exactly how surface residual stress affects film characteristics is investigated using glancing incident X-ray diffraction (GIXRD) and pole figure analyses. Compared with unimplanted CrN, implanted carbon typically increases compressive residual stress and hardness. Wear resistance was also improved by implanted carbon.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 16, 30 June 2008, Pages 5330–5333
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 16, 30 June 2008, Pages 5330–5333
نویسندگان
Ko-Wei Weng, Ya-Chi Chen, Sheng Han, Chih-Sheng Hsu, Yung-Lin Chen, Da-Yung Wang,