کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1675270 | 1008977 | 2008 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Formation of nanometer-scale structures using conventional optical lithography
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
We investigated a new method to form the line-and-space patterns with a nanometer-scale using the conventional optical lithography technique and the metal deposition/liftoff process. The ashing of the negative photo resist defined by the conventional optical lithography technique results in the proper profiles including a high aspect ratio (i.e., height/width value of the patterns) for the formation of nanometer-scale structures. We demonstrated that the metal electrodes with the nanometer-scale gap of 20Â nm or less can be easily obtained by the newly proposed method without employing the highly sophisticated lithography tools including an electron beam lithography.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 7, 15 February 2008, Pages 1489-1492
Journal: Thin Solid Films - Volume 516, Issue 7, 15 February 2008, Pages 1489-1492
نویسندگان
Kyoung S. Kim, Kyoung Nam Lee Kyoung Nam Lee, Yonghan Roh,