کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1675560 | 1008980 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Tuning of electrical and structural properties of indium oxide films grown by metal organic chemical vapor deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Tuning of structural and electrical properties of indium oxide (In2O3) films by means of metal organic chemical vapor deposition is demonstrated. Phase selective growth of rhombohedral In2O3(0001) and body-centered cubic In2O3(001) polytypes on (0001) sapphire substrates was obtained by adjusting the substrate temperature and trimethylindium flow rate. The specific resistance of the as-grown films can be tuned by about two orders of magnitude by varying the growth conditions.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 515, Issue 16, 4 June 2007, Pages 6611–6614
Journal: Thin Solid Films - Volume 515, Issue 16, 4 June 2007, Pages 6611–6614
نویسندگان
Ch.Y. Wang, V. Cimalla, H. Romanus, Th. Kups, M. Niebelschütz, O. Ambacher,