کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1676153 | 1518099 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The mechanism of alumina formation from TMA and molecular oxygen using catalytic-CVD with an iridium catalyzer
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
The mechanism of alumina formation from tri-methyl aluminum (TMA) and oxygen (O2) using catalytic-chemical vapor deposition (Cat-CVD) with an iridium catalyzer was investigated by quadrupole mass spectrometry (QMS). Above 600 °C, TMA decomposed into Al and CH3. Aluminum in the presence of O2 caused a decrease in O2 and the creation of alumina on Si crystals. These results imply that O2 and Al produced AlO as expected. The iridium catalyzer was resistant to oxidation. MIS diodes with 17-nm-thick alumina gates were produced with a hysteresis shift voltage of 0.01 mV and a fixed charge density of 6.7 × 1011 cm− 2.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 501, Issues 1–2, 20 April 2006, Pages 35–38
Journal: Thin Solid Films - Volume 501, Issues 1–2, 20 April 2006, Pages 35–38
نویسندگان
Yoh-Ichiro Ogita, Toshiyuki Tomita,