کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1676221 | 1518099 | 2006 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Preparation and electron field emission of carbon nanowall by Cat-CVD
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Carbon nanowall (CNW) films have been prepared by catalytic chemical vapor deposition using only CH4 gas. In the SEM images of the samples prepared at a substrate heating temperature, Ts, of 500 °C, the wall structures on the substrates were observed. In those prepared at Ts of 400 °C, however, the wall structure was not observed. The electron field emission from the CNW films was observed at small electric field. The wall width and height increased when the Raman intensity ratio, ID/IG, decreased. Then, the threshold electric field decreased. The smallest threshold electric field was 2.6 V/μm in this work.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 501, Issues 1–2, 20 April 2006, Pages 314–317
Journal: Thin Solid Films - Volume 501, Issues 1–2, 20 April 2006, Pages 314–317
نویسندگان
Takashi Itoh, Seiji Shimabukuro, Shigeo Kawamura, Shuichi Nonomura,