کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1676292 | 1008995 | 2007 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Laser-induced fluorescence ion diagnostics in light of plasma processing
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
A brief overview of non-perturbing light diagnostics is followed by recent examples of process plasma properties measured via laser-induced fluorescence (LIF), optical emission, and absorption spectroscopy. Examples include radical density measurement via absorption and emission spectroscopy. With LIF, examples show properties of ion beam etching sources and ion velocity angle variations in ICP sheaths near a process surface. Because of the wide range of process plasma parameters, appropriate choice of light diagnostics varies.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 515, Issue 12, 23 April 2007, Pages 4860–4863
Journal: Thin Solid Films - Volume 515, Issue 12, 23 April 2007, Pages 4860–4863
نویسندگان
R. McWilliams, J.P. Booth, E.A. Hudson, J. Thomas, D. Zimmerman,