کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1676965 | 1518094 | 2006 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
KrF laser deposition combined with magnetron sputtering to grow titanium–carbide layers
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Titanium–carbide films were grown using a magnetron assisted pulse laser deposition combining KrF pulsed laser deposition and DC magnetron sputtering (PLDMS). Plasma streams produced by magnetron and laser ablation were intersected on the substrate surface. Films' properties were characterized by GDOES, AFM, XRD, XPS as well as by Raman spectroscopy. The adhesion and microhardness were also studied. Crystalline TiC films were fabricated at room temperature.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volumes 506–507, 26 May 2006, Pages 101–105
Journal: Thin Solid Films - Volumes 506–507, 26 May 2006, Pages 101–105
نویسندگان
M. Jelínek, T. Kocourek, J. Kadlec, V. Vorlíček, M. Čerňanský, V. Studnička, A. Santoni, P. Boháč, F. Uherek,