کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
1791907 | 1023625 | 2011 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
High-quality structures with InAs/Al0.9Ga0.1As QDs produced by droplet epitaxy
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: High-quality structures with InAs/Al0.9Ga0.1As QDs produced by droplet epitaxy High-quality structures with InAs/Al0.9Ga0.1As QDs produced by droplet epitaxy](/preview/png/1791907.png)
چکیده انگلیسی
⺠The structures with InAs quantum dots were grown by droplet epitaxy. ⺠Well-defined wetting layer is observed in the structures. ⺠This wetting layer has high smoothness of heterointerface and low concentration of defects. ⺠As a result the carrier transfer from the wetting layer to the QDs is highly efficient.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 337, Issue 1, 15 December 2011, Pages 93-96
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 337, Issue 1, 15 December 2011, Pages 93-96
نویسندگان
A.A. Lyamkina, D.S. Abramkin, D.V. Dmitriev, D.V. Gulyaev, A.K. Gutakovsky, S.P. Moshchenko, T.S. Shamirzaev, A.I. Toropov, K.S. Zhuravlev,