کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5465855 | 1517974 | 2017 | 24 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dewetting of Ni thin films obtained by atomic layer deposition due to the thermal reduction process: Variation of the thicknesses
ترجمه فارسی عنوان
از بین بردن نایلون های نازک به دست آمده از رسوب لایه اتمی به علت فرایند کاهش حرارت: تغییر ضخامت
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
نیکل نازک فیلم، خواص مغناطیسی، رسوب لایه اتمی، فرایند خنثی کردن، شبیه سازی میکرو مغناطیسی،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
Nickel oxide thin films with different thicknesses were synthesized by atomic layer deposition. After a thermal reduction process, under a controlled atmosphere of hydrogen, it was possible to convert nickel oxide to metallic nickel. The different thicknesses were obtained for 250 to 2000Â cycles of NiCp2/O3. The Ni thin films were characterized by X-ray diffraction, scanning electron microscopy, and by Magneto-Optical Kerr effect measurements. Micromagnetic simulations have been performed to investigate the mechanism of magnetization reversion of these films. Interestingly, the thermal reduction of films synthesized by ALD allows the generation of both randomly oriented, sized and spaced Ni islands and antidot arrays from thin films.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 638, 30 September 2017, Pages 114-118
Journal: Thin Solid Films - Volume 638, 30 September 2017, Pages 114-118
نویسندگان
Daniela Alburquenque, Marcela Del Canto, Claudia Arenas, Felipe Tejo, Alejandro Pereira, Juan Escrig,