Wrinkling and wrinkling-suppression in graphene membranes with frozen zone

رفتارهای چروکی ناشی از کشش در غشاهای گرافنی با منطقه یخ زده در شبیه سازی های دینامیکی مولکولی مورد بررسی قرار گرفته و با اتخاذ طرح های بهینه ای که بهینه سازی توپولوژی به دست می آید، سرکوب می شوند. غشاهای گرافنی با طرح های بهینه تحت کشش بدون چروک، این معنی دار برای اطمینان از کارایی استثنایی گرافن نانوالکترونیک است. هر دو مکانیسم های چین و چروک و سرکوب، به صورت کمی و کیفی با تجزیه و تحلیل عناصر محدود، که برای درک چروک شدن ناشی از کشش در غشاهای گرافنی با منطقه یخ زده مفید است، و ارائه راهنمایی مفید برای طراحی گرافن- نانوالکترونیک بزرگ .