کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
5466096 | 1517981 | 2017 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Nanostructuring of iron thin films by high flux low energy helium plasma
ترجمه فارسی عنوان
ساختار نانو ساختارهای نازک آهن توسط پلاسمای هلیوم پائین با قدرت بالا
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
پلاسمای جریان یون بالا نانوساختار، فیلم نازک آهن برنامه های کاتالیزوری،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
High flux, low energy He plasma exposure is proven to nanostructure iron thin films over their entire thickness to a highly open structure with large surface area. From a large set of plasma exposure parameters, the ion flux, the surface temperature, and the plasma exposure time are found to be the most relevant parameters to process mechanically stable, nanostructured Fe thin films on brittle glass substrates. The nanostructure stays stable during oxidation. Different surface morphologies are found, depending on the location where the plasma plume interacts with the thin film. This method paves the way to a new direction in top down nanostructuring of thin films, which can be adopted for many functional materials in diverse applications that require a high ratio of active to projected surface area.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 631, 1 June 2017, Pages 50-56
Journal: Thin Solid Films - Volume 631, 1 June 2017, Pages 50-56
نویسندگان
A. Bieberle-Hütter, I. Tanyeli, R. Lavrijsen, B. Koopmans, R. Sinha, M.C.M. van de Sanden,