کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8032471 | 1517950 | 2018 | 25 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dielectric breakdown of alumina thin films produced by pulsed direct current magnetron sputtering
ترجمه فارسی عنوان
تجزیه دی الکتریک از فیلم های نازک آلومینای تولید شده توسط پالس مستقیم جریان مگنترون اسپری
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
آلومینا، اسپری مگنترون، پالس شده، قدرت دی الکتریک، چسبندگی،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
Alumina films (~2â¯Î¼m thick) were deposited with a mixed Cu/Al interlayer onto copper. Direct current (DC)/Pulsed DC (PDC) magnetron sputtering techniques were independently compared for reactive alumina sputtering. In DC sputtered films, elemental aluminium of 9.2 at.% and nano-crystallites were present within the x-ray amorphous matrix, resulting from target arcing. Defects lead to premature dielectric breakdown/increased current leakage. PDC sputtering improved film quality by removing crystallites, metallic clusters and through thickness cracking. Time dependent dielectric breakdown (TDDB) measurements were carried out using conductive atomic force microscopy identified an improvement in dielectric strength (166 to 310â¯Vâ¯Î¼mâ1) when switching from DC to PDC deposition power. TDDB suggested that at high applied field the dominant pre-breakdown conduction mechanism was Fowler-Nordheim tunnelling in DC films. Tensile pull-off adhesion ranged from 56 to 72â¯MPa and was highest following incorporation of an Cu/Al blended interfacial layer. Scratch testing indicated various cracking/buckling failures.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 662, 30 September 2018, Pages 145-154
Journal: Thin Solid Films - Volume 662, 30 September 2018, Pages 145-154
نویسندگان
Benjamin V.T. Hanby, Bryan W. Stuart, Colin Grant, Jonathan Moffat, Jonathan Blissett, Chris Gerada, Miquel Gimeno-Fabra, David M. Grant,