کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8034093 | 1518020 | 2015 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Stress engineering for the design of morphotropic phase boundary in piezoelectric material
ترجمه فارسی عنوان
مهندسی استرس برای طراحی مرز فاز مورفوتروپیک در مواد پیزوالکتریک
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
فیلم نازک پیزوالکتریک، مهندسی استرس، رسوب شیمیایی محلول، مرز فاز مرفوتروپیک، انتقال فاز،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
Alkoxide-derived lead zirconate titanate thin films having Zr/Ti = 50/50 to 60/40 compositions with different residual stress conditions were deposited on a Si wafer to clarify the effects of the residual stress on the morphotropic phase boundary shift. The residual stress condition was controlled to â 0.1 to â 0.9 GPa by the design of the buffer layer structure on the Si wafer. Results show that the maximum effective piezoelectric constant d33 was obtained at 58/42 composition under â 0.9 GPa compressive residual stress condition. Moreover, the MPB composition shifted linearly to Zr-rich phase with increasing compressive residual stress.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 585, 30 June 2015, Pages 91-94
Journal: Thin Solid Films - Volume 585, 30 June 2015, Pages 91-94
نویسندگان
Tomoya Ohno, Hiroshi Yanagida, Kentaroh Maekawa, Takashi Arai, Naonori Sakamoto, Naoki Wakiya, Hisao Suzuki, Shigeo Satoh, Takeshi Matsuda,