کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8034514 | 1518023 | 2015 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Numerical reactive diffusion modeling of stacked elemental layer rapid thermal annealed chalcopyrite absorber layer formation
ترجمه فارسی عنوان
مدلسازی نفوذ واکنشی عددی از لایه عنصر انباشته شده تشکیل سریع لایه جذب کلوپوپییر
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
کلوپوپیریت، انتشار واکنش پذیر، مدل سازی نفوذ،
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
The diffusion processes during chalcopyrite (CuInSe2) layer formation by rapid thermal annealing (RTA) of stacked elemental layers are still not completely understood. We present a one-dimensional kinetic model, which describes the diffusive reaction kinetics for layers of partial miscible systems to describe the RTA process. The model was applied to a layer stack of elemental Se between the metallic layers Cu and In. First, some binary phases occur. After the Se layer is consumed, CuInSe2 is observed between the binary compounds Cu2Se and In2Se3.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 582, 1 May 2015, Pages 397-400
Journal: Thin Solid Films - Volume 582, 1 May 2015, Pages 397-400
نویسندگان
André Zweschke, Peter J. Wellmann,