کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8034525 1518026 2015 102 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The use of hollow cathodes in deposition processes: A critical review
ترجمه فارسی عنوان
استفاده از کاتد های توخالی در فرایندهای رسوب: یک بررسی بحرانی
کلمات کلیدی
ترجمه چکیده
در بخش آخر این بازبینی، ما توصیف می کنیم که چگونه کاتد های توخالی برای پوشش دادن فیلم های نازک و پوشش های نانوساختار استفاده می شود. ما لیستی گسترده و تقریبی زمانی ارائه می دهیم که چگونه کاتد های توخالی به طور موفقیت آمیز برای رسوب مواد استفاده می شود، عمدتا به وسیله اسپری کردن و افزایش پلاسمای تکنیک های پایدار شیمیایی بخار شیمیایی.
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
In the last section of this review, we describe how hollow cathodes have and can be used to deposit thin films and nanostructured coatings. We provide an extensive and approximately chronological listing of how hollow cathodes have been successfully used to deposit materials, mainly by sputtering and plasma enhanced chemical vapour deposition based techniques.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 579, 31 March 2015, Pages 174-198
نویسندگان
, ,