کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8035089 | 1518045 | 2014 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Influences of deposition temperature on characteristics of B-doped ZnO films deposited by metal-organic chemical vapor deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله

چکیده انگلیسی
Boron-doped zinc oxide films were fabricated by metal-organic chemical vapor deposition at deposition temperatures (Td) from 150 to 210 °C. The deposition rate increases abruptly and monotonically with increasing Td. The resistivity also varies drastically, and a minimum resistivity of 1.6 Ã 10â 3Ω cm is obtained at Td = 175 °C. The crystal orientation and surface texture show Td dependence. These characteristics correlate with each other. The dependence of these characteristics on Td is caused by the reactivity of the source materials.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 559, 30 May 2014, Pages 83-87
Journal: Thin Solid Films - Volume 559, 30 May 2014, Pages 83-87
نویسندگان
K. Maejima, T. Koida, H. Sai, T. Matsui, K. Saito, M. Kondo, T. Takagawa,