کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
8035217 1518047 2014 5 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ultra high hole mobilities in a pure strained Ge quantum well
ترجمه فارسی عنوان
توانایی های بالای سوراخ در یک خالص کوانتومی جی خال خالص
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
Hole mobilities at low and room temperature (RT) have been studied for a strained sGe/SiGe heterostructure using standard Van der Pauw resistivity and Hall effect measurements. The range of magnetic field and temperatures used were − 14 T < B < + 14 T and 1.5 K < T < 300 K respectively. Using maximum entropy-mobility spectrum analysis (ME-MSA) and Bryan's algorithm mobility spectrum (BAMS) analysis, a RT two dimensional hole gas drift mobility of (3.9 ± 0.4) × 103 cm2/V s was determined for a sheet density (ps) 9.8 × 1010 cm− 2 (by ME-MSA) and (3.9 ± 0.2) × 103 cm2/V s for a sheet density (ps) 5.9 × 1010 cm− 2 (by BAMS).
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 557, 30 April 2014, Pages 329-333
نویسندگان
, , , , , , , , , , , , , , ,