کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8035217 | 1518047 | 2014 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Ultra high hole mobilities in a pure strained Ge quantum well
ترجمه فارسی عنوان
توانایی های بالای سوراخ در یک خالص کوانتومی جی خال خالص
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
Hole mobilities at low and room temperature (RT) have been studied for a strained sGe/SiGe heterostructure using standard Van der Pauw resistivity and Hall effect measurements. The range of magnetic field and temperatures used were â 14 T < B < + 14 T and 1.5 K < T < 300 K respectively. Using maximum entropy-mobility spectrum analysis (ME-MSA) and Bryan's algorithm mobility spectrum (BAMS) analysis, a RT two dimensional hole gas drift mobility of (3.9 ± 0.4) Ã 103 cm2/V s was determined for a sheet density (ps) 9.8 Ã 1010 cmâ 2 (by ME-MSA) and (3.9 ± 0.2) Ã 103 cm2/V s for a sheet density (ps) 5.9 Ã 1010 cmâ 2 (by BAMS).
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 557, 30 April 2014, Pages 329-333
Journal: Thin Solid Films - Volume 557, 30 April 2014, Pages 329-333
نویسندگان
O.A. Mironov, A.H.A. Hassan, R.J.H. Morris, A. Dobbie, M. Uhlarz, D. Chrastina, J.P. Hague, S. Kiatgamolchai, R. Beanland, S. Gabani, I.B. Berkutov, M. Helm, O. Drachenko, M. Myronov, D.R. Leadley,