کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8035967 | 1518059 | 2013 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Atomic layer deposition of TiO2 from tetrakis(dimethylamino)titanium and H2O
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Atomic layer deposition of TiO2 from tetrakis(dimethylamino)titanium and H2O Atomic layer deposition of TiO2 from tetrakis(dimethylamino)titanium and H2O](/preview/png/8035967.png)
چکیده انگلیسی
The variations of the deposition rate are related to a change from a surface determined decomposition of TDMAT to a gas phase decomposition route above 250 °C. At the same temperature, the microstructure of the TiO2 layers changes from amorphous to predominately crystalline, where both anatase and rutile are present.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 545, 31 October 2013, Pages 176-182
Journal: Thin Solid Films - Volume 545, 31 October 2013, Pages 176-182
نویسندگان
Barbara Abendroth, Theresa Moebus, Solveig Rentrop, Ralph Strohmeyer, Mykola Vinnichenko, Tobias Weling, Hartmut Stöcker, Dirk C. Meyer,