کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8036442 | 1518062 | 2013 | 7 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Growth and characterization of titanium oxide by plasma enhanced atomic layer deposition
ترجمه فارسی عنوان
رشد و خصوصی سازی اکسید تیتانیوم با افزایش میزان اتمی لایه بردار پلاسما
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
The growth of TiO2 films by plasma enhanced atomic layer deposition using Star-Ti as a precursor has been systematically studied. The conversion from amorphous to crystalline TiO2 was observed either during high temperature growth or annealing process of the films. The refractive index and bandgap of TiO2 films changed with the growth and annealing temperatures. The optimization of the annealing conditions for TiO2 films was also done by morphology and density studies.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 542, 2 September 2013, Pages 38-44
Journal: Thin Solid Films - Volume 542, 2 September 2013, Pages 38-44
نویسندگان
Chao Zhao, M.N. Hedhili, Jingqi Li, Qingxiao Wang, Yang Yang, Long Chen, Liang Li,