کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8036946 | 1518072 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Reactive-gas-flow sputter deposition of amorphous WO3 films for electrochromic devices
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠Electrochromic amorphous WO3 films were deposited by gas flow sputtering. ⺠Deposition rates were 160-270 nm/min, much higher than for conventional sputtering. ⺠The colouration efficiency was comparable to that for conventional sputtering.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 1-6
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 1-6
نویسندگان
N. Oka, M. Watanabe, K. Sugie, Y. Iwabuchi, H. Kotsubo, Y. Shigesato,