کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8036975 | 1518072 | 2013 | 6 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Dense CdS thin films on fluorine-doped tin oxide coated glass by high-rate microreactor-assisted solution deposition
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Dense CdS thin films on fluorine-doped tin oxide coated glass by high-rate microreactor-assisted solution deposition Dense CdS thin films on fluorine-doped tin oxide coated glass by high-rate microreactor-assisted solution deposition](/preview/png/8036975.png)
چکیده انگلیسی
⺠CdS films deposited using continuous microreactor-assisted solution deposition (MASD) ⺠Dense nanocrystallite CdS films can be reached at a rate of 25.2 [nm/min]. ⺠MASD can approach higher film growth rate than conventional chemical bath deposition.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 16-21
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 16-21
نویسندگان
Yu-Wei Su, Sudhir Ramprasad, Seung-Yeol Han, Wei Wang, Si-Ok Ryu, Daniel R. Palo, Brian K. Paul, Chih-hung Chang,