کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8037009 | 1518072 | 2013 | 4 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
The influence of the electrical asymmetry effect on deposition uniformity of thin silicon film
ترجمه فارسی عنوان
تأثیر اثر نامتقارن الکتریکی بر یکنواختی رسوب سیلیکون نازک
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
چکیده انگلیسی
⺠The electrical asymmetry effect technique tested for thin silicon film deposition ⺠Bias voltage has an influence on film uniformity. ⺠Minimized the deterioration of layer uniformity while increasing discharge frequency
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 56-59
Journal: Thin Solid Films - Volume 532, 1 April 2013, Pages 56-59
نویسندگان
D. Hrunski, A. Janssen, T. Fritz, T. Hegemann, C. Clark, U. Schreiber, G. Grabosch,