کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8037451 | 1518077 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Stress tuning in sputter-deposited MoOx films
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
![عکس صفحه اول مقاله: Stress tuning in sputter-deposited MoOx films Stress tuning in sputter-deposited MoOx films](/preview/png/8037451.png)
چکیده انگلیسی
⺠Small oxygen doping can increase residual compressive stress in Mo films. ⺠Substrate bias during deposition impacts stress in Mo and MoOx films. ⺠Stress distribution and microstructure linked to oxygen concentration in the film.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 527, 1 January 2013, Pages 222-226
Journal: Thin Solid Films - Volume 527, 1 January 2013, Pages 222-226
نویسندگان
J.-Y. Faou, E. Barthel, S.Y. Grachev,