کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8037573 | 1518077 | 2013 | 5 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Depth profile investigation of the incorporated iron atoms during Kr+ ion beam sputtering on Si (001)
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
مهندسی مواد
فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
چکیده انگلیسی
⺠We investigate the incorporation of iron atoms during nano-patterning of Si surfaces. ⺠Pattern formation occurs when the areal density of Fe exceeds a certain threshold. ⺠X-ray reflectivity shows a layering at near surface due to incorporated Fe atoms. ⺠It is shown that the patterning is accompanied with the appearance of Fe-rich silicide.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 527, 1 January 2013, Pages 349-353
Journal: Thin Solid Films - Volume 527, 1 January 2013, Pages 349-353
نویسندگان
B. Khanbabaee, B. Arezki, A. Biermanns, M. Cornejo, D. Hirsch, D. Lützenkirchen-Hecht, F. Frost, U. Pietsch,