کد مقاله | کد نشریه | سال انتشار | مقاله انگلیسی | نسخه تمام متن |
---|---|---|---|---|
8151509 | 1524441 | 2014 | 30 صفحه PDF | دانلود رایگان |
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Origins of unintentional incorporation of gallium in InAlN layers during epitaxial growth, part II: Effects of underlying layers and growth chamber conditions
دانلود مقاله + سفارش ترجمه
دانلود مقاله ISI انگلیسی
رایگان برای ایرانیان
کلمات کلیدی
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه
فیزیک و نجوم
فیزیک ماده چگال
پیش نمایش صفحه اول مقاله

ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 388, 15 February 2014, Pages 143-149
Journal: Journal of Crystal Growth - Volume 388, 15 February 2014, Pages 143-149
نویسندگان
Jeomoh Kim, Zachary Lochner, Mi-Hee Ji, Suk Choi, Hee Jin Kim, Jin Soo Kim, Russell D. Dupuis, Alec M. Fischer, Reid Juday, Yu Huang, Ti Li, Jingyi Y. Huang, Fernando A. Ponce, Jae-Hyun Ryou,