کد مقاله کد نشریه سال انتشار مقاله انگلیسی نسخه تمام متن
9812322 1518111 2005 7 صفحه PDF دانلود رایگان
عنوان انگلیسی مقاله ISI
Sol-gel bonding of silicon wafers
موضوعات مرتبط
مهندسی و علوم پایه مهندسی مواد فناوری نانو (نانو تکنولوژی)
پیش نمایش صفحه اول مقاله
Sol-gel bonding of silicon wafers
چکیده انگلیسی
An optimum water-to-alkoxide molar ratio of 10 and hydrolysis water at pH = 2 were found. Such conditions led to relatively dense films (> 90%), resulting in bonds with a fracture energy of 3.5 J/m2, significantly higher than those obtained using classical hydrophilic bonding (typically 1.5-2.5 J/m2). Ageing of the coating solution was found to decrease the bond strength.
ناشر
Database: Elsevier - ScienceDirect (ساینس دایرکت)
Journal: Thin Solid Films - Volume 488, Issues 1–2, 22 September 2005, Pages 160-166
نویسندگان
, , , , , , , , ,